硅溶膠拋光液廣泛應用于各種材料的納米級拋光。如:不銹鋼、鋁合金、復合晶體、精密光學(xué)器件等的表面精密拋光。
在拋光過(guò)程中，影響拋光過(guò)程的主要因素如下:
?、贉囟?隨著(zhù)溫度的升高，拋光液的化學(xué)反應能力增強，拋光速率加快。但是，過(guò)高的溫度會(huì )導致拋光液揮發(fā)，加速化學(xué)反應，導致嚴重的表面腐蝕，導致拋光效果不均勻，拋光質(zhì)量下降。
?、谒釅A度:拋光液的酸堿度越高，堿度越強，反應速度越快。然而，酸堿度對拋光表面的蝕刻、研磨劑的分解和溶解性、拋光液的穩定性等有很大的影響。，從而影響材料的去除率和表面質(zhì)量，因此應嚴格控制。
?、蹓毫?一般來(lái)說(shuō)，壓力越高，拋光速度越快。然而，如果壓力太高，拋光速率會(huì )稍微下降。原因是過(guò)高的壓力會(huì )降低拋光墊承載拋光液的能力。另外，過(guò)大的壓力容易造成碎片現象。
?、苻D速:提高轉速會(huì )提高拋光率。但是，過(guò)高的轉速會(huì )導致拋光液在拋光墊上分布不均勻，從而影響拋光質(zhì)量。
?、輶伖庖簼舛?當拋光液濃度增加時(shí)，去除率增加，但當磨粒濃度超過(guò)一定值時(shí)，材料去除率將停止增加并保持恒定值。這種現象被稱(chēng)為去除飽和。此外，如果濃度過(guò)高，表面缺陷(如劃痕)可能會(huì )增加，從而影響表面質(zhì)量。